Pabellón de UK Expo Shanghai 2010 / Heatherwick Studio

© Daniele Mattioli

Les hemos presentado anteriormente algunas fotografías del pabellón de UK. En ellas hemos ido viendo cómo se han vuelto realidad los modelos presentados en los renders. A unos pocos días de la gran inauguración en Shanghai, Heatherwick Studio’s nos ha enviado un valioso material con imágenes y planimetrías del pabellón.

© Daniele Mattioli

Hablando un poco más acerca de este pabellón, podemos decir que surgió buscando las relaciones entre ciudades y tecnología, dada la temática de la Expo “Better Cities, Better Life”. Por una parte, Londres es la ciudad más verde de su tamaño en todo el mundo y ha sido pionera en tener un parque público e Institución Botánica (los Royal Botanic Gardens), por lo que se decidió apostar por esta catedral de semillas.

Tal vez, una de las cosas más difíciles a la hora de realizar uno de estos pabellones es el de no caer en la propaganda, situación que les ha costado críticas a algunos, siendo uno de ellos el de Nueva Zelanda. En el caso de UK, este fue uno de los temas que la oficina se propuso como objetivo evitar y además podemos ver en las imágenes que se trata de in pabellón muy conceptual y sobrio.

© Daniele Mattioli

Fue así como el desafío de Heatherwick Studio’s fue el de llevar hasta Shanghai este espacio repleto de varillas acrílicas con semillas en su interior. No sólo plantea una temática sustentable sino que pretende aplicarla, ya que sus creadores se preocuparon de eliminar transportes excesivos y se abastecieron de lo necesario no saliendo de un radio de 300km alrededor de Shanghai, contratando además mano de obra local. En cuanto al pabellón una vez que termine la Expo en Octubre, la mayoría de sus materiales serán reciclados y las semillas que contiene serán esparcidas.

© Daniele Mattioli

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Sobre este autor/a
Cita: Giuliano Pastorelli. "Pabellón de UK Expo Shanghai 2010 / Heatherwick Studio" 04 may 2010. ArchDaily México. Accedido el . <https://www.archdaily.mx/mx/02-42294/pabellon-de-uk-expo-shanghai-2010-heatherwick-studio> ISSN 0719-8914

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